国产的SP光刻机到底牛在哪儿?

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最近“我国成功研制出的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备”的新闻刷屏了。一帮人欢欣鼓舞,一帮人不屑一顾。没人你这个装备到底实力怎样才能,牛到底牛在哪儿?

先回答亲戚亲戚让让我们都都 最关心的1个难题报告 :

1、亲戚亲戚让让我们都都 可不能能 实现芯片彻底国产化何时?

答:暂时还不行。

2、不吹不黑,你这个装备真的没人厉害吗,还是只是 吹牛?

答:我我觉得很厉害。

只是 人只盯着新闻里22nm你这个指标,我我觉得亲戚亲戚让让我们都都 要关注的是“365nm的光源,单次曝光线宽可达22nm”。注意到我加黑的那有几只关键词何时?22nm指标我我觉得很棒怎样才能让业界早就做过了,到底哪里厉害呢?只是 关键是用365nm的光源单次曝光做到22nm,懂点光学的就知道这原应分析哪几种:打破了传统的衍射极限。

只是 在我看来,这台机器最大的价值是验证了表层 等离子体(SP)光刻加工的可行性。

这台SP光刻机与ASML光刻机对比为什么会样呢?举个不恰当的例子吧,这就像是初期的枪械与最厉害的弓箭的对比。早期枪械,比如火铳,无论是射击精度还是射击距离都远远比不上厉害的弓箭,怎样才能让如今的狙击枪早已把弓箭甩开十万八千里了,这只是 原理性的胜利。

要理解刚才说的你这个“原理性的胜利”到底是为什么会回事,亲戚亲戚让让我们都都 首先得回顾一下以ASML为代表的传统光刻机是为什么会做的。

中间是ASML光刻机简单的原理图,抛开冗杂的监测设备不谈,最核心的原理只是 通过物镜系统将掩膜版上的图案进行缩印成像。涉及到成像过程,就不得不考虑光的衍射极限。即便抛开所有的几何像差,将会衍射的作用,1个无限小的点成像后也会变成1个弥散斑,被称为“艾里斑”。怎样才能让实际光学系统成像的分辨率只是 1个艾里斑恰好不不可不能能 分开的距离。

只是 将会衍射效应,成像分辨率会受到限制,最终的分辨率取决于波长、数值孔径等参数,波长越小、数值孔径越大分辨率则越高。只是 ASML哪几种年来主要的研究方向只是 利用更短的波长(近紫外-深紫外-极紫外)、增大数值孔径(更冗杂的物镜、固体浸没)。怎样才能让每进一步都变得更加艰难,对系统设计、加工装配、误差检测等等诸多方面都提出了更为苛刻的要求,成本也没人高昂。

没人表层 等离子体光刻又是为什么会一回事呢?表层 等离子体指的是某种局域在物质表层 的特殊的电磁波,随着抛弃物质表层 距离的增大很快衰减,一般认为波长量级以上的区域就不存在了。

更为神奇的是,我我觉得表层 等离子体波是由许多电磁波激发的,怎样才能让波长会被极大地压缩,而压缩的比例取决于材料的电磁性质等参数。

这就原应分析,利用表层 等离子体波进行光刻时,从原理上就没人了受到传统衍射极限的限制了。

在光刻机研制方面,亲戚亲戚让让我们都都 时不时有1个选着:沿用ASML的老路走一遍,还是另辟蹊径通过新原理弯道超车?亲戚亲戚让让我们都都 国家目前1个选着有的是做。而这台SP光刻机的研制成功,只是 让亲戚亲戚让让我们都都 看到了弯道超车的将会性。我我觉得从原理上,这亲戚让让我们都都 说有的是的是弯道超车了,只是 在别的人还在绕山路的完后 ,亲戚亲戚让让我们都都 尝试着打了一条隧道……我我觉得还没人完整篇 挖通,但曙光就在手中了。

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